Трехмерная лазерная литография
![](/sites/default/files/styles/max_325x325/public/research-areas-image/565.jpg?itok=C0q1t7ea)
![](/sites/default/files/styles/max_325x325/public/research-areas-image/566.jpg?itok=KurTGTNc)
![](/sites/default/files/styles/max_325x325/public/research-areas-image/567.jpg?itok=R6xMMz38)
В настоящее время основной тренд развития фотонных устройств – их миниатюризация. Одним из наиболее перспективных технологических направлений в этом тренде является трехмерная лазерная литография (3D-ЛЛ), которая в иностранной литературе имеет названия «direct laser writing» или «two photon polymerisation». Основанная на резонансном двухфотонном поглощении и последующей полимеризации фоторезистивного материала, технология 3D-ЛЛ позволяет создавать трехмерные объекты с разрешением до 100 нанометров.
Основная задача, этого научного направления - это создание уникальных двумерных и трехмерных субмикронных структур и их дальнейшие спектральные исследования.
Сотрудники
![](/sites/default/files/styles/max_325x325/public/research-areas-image/565.jpg?itok=C0q1t7ea)
![](/sites/default/files/styles/max_325x325/public/research-areas-image/566.jpg?itok=KurTGTNc)
![](/sites/default/files/styles/max_325x325/public/research-areas-image/567.jpg?itok=R6xMMz38)
Публикации
There are no publications