Трехмерная лазерная литография

В настоящее время основной тренд развития фотонных устройств – их миниатюризация. Одним из наиболее перспективных технологических направлений в этом тренде является трехмерная лазерная литография (3D-ЛЛ), которая в иностранной литературе имеет названия «direct laser writing» или «two photon polymerisation». Основанная на резонансном двухфотонном поглощении и последующей полимеризации фоторезистивного материала, технология 3D-ЛЛ позволяет создавать трехмерные объекты с разрешением до 100 нанометров.

Основная задача, этого научного направления - это создание уникальных двумерных и трехмерных субмикронных структур и их дальнейшие спектральные исследования.