В докладе рассматриваются физические процессы, сопровождающие нуклеацию и рост графеновых слоев на поверхности металлов, в первую очередь при CVD углеродсодержащих молекул. Подробно рассматривается влияние подложки, т.е. химическая природа металла, роль давления и температуры. Представлены данные по характеризации выращиваемых слоев различными методами, как in citu, так и после извлечения из высоковакуумных условий. Изучен баланс углеродных атомов при росте и образовании графеновых слоев и рассмотрены закономерности фазовых переходов, приводящих к росту однослойной графеновой пленки и многослойного графита.